6 工艺设计

6.0.1 电磁波暗室的工艺区划应满足暗室体型尺寸、暗室与功能性房间之间的相对位置要求。

6.0.2 暗室应与测控间、设备间、试验间等相邻。

6.0.3 暗室开门位置不宜在主反射区。

6.0.4 暗室布局宜自建筑的底层开始。

6.0.5 暗室体型宜选择内壁对电磁波反射路径既少又弱、试验操作安全可靠、结构简单的体型。

6.0.6 暗室内有两套或以上功能测试系统时，其体型和尺寸除应满足各测试系统的测量技术要求外，还应满足系统间相互耦合的隔离要求。

6.0.7 长方体暗室尺寸应符合下列规定：

1 内壁长度L应按下式计算：

L≥L1＋L2＋L3＋L4 （6.0.7-1）

式中：L1——测量距离（m），按表6.0.7计算；

L2——暗室内测量系统设备和受试设备在测试中，沿暗室测量纵轴方向所占据的最大尺寸之和（m）；

L3——为满足运输、维护及电磁辐射性能要求，沿测量纵轴方向增加的长度；

L4——暗室两端墙壁吸波材料沿测量纵轴方向的高度和（m）。

表6.0.7 L1计算

2 内壁宽度W应按下式计算：

W＝W1＋W2＋W3 （6.0.7-2）

式中：W——内壁宽度（m），不宜小于0.87L1；

W1——暗室内测量系统设备和受试设备在测试中，沿暗室宽度方向所占据的最大尺寸（m）；

W2——满足运输、维护和辐射特性需要，沿暗室宽度方向的空间尺寸（m）；

W3——暗室两侧墙壁吸波材料高度的总和（m）。

3 内壁高度H应按下式计算，并应满足辐射特性要求：

H＝H1＋H2＋H3 （6.0.7-3）

式中：H——内壁高度（m），对于1-1、2-1、2-2、3-2类暗室，不宜小于0.87L1；

H1——测量系统设备或受试设备的最大高度（m）；

H2——设备上部安装空间尺寸（m）；

H3——暗室顶部吸波材料高度（m）。

6.0.8 锥体暗室尺寸设计应符合下列规定：

1 暗室静区尺寸不应小于待测天线尺寸。

2 暗室长方体部分宽度和高度应相等，不应小于暗室静区尺寸的3倍。

3 暗室长方体部分长度不应小于暗室宽度和主墙吸波材料高度的和。

4 锥顶角可选取20°～22°。

5 根据本条第1款～第4款设计的锥形暗室，测量距离L1应满足本规范表6.0.7的远场条件。

6 6GHz及以上频段的锥形暗室，应符合自由空间电波传播幅度与相位的均匀性要求。

6.0.9 正多边柱体暗室尺寸应符合下列规定：

1 内壁内切圆半径R应按下式计算：

R≥L1＋R2＋R3＋R4 （6.0.9-1）

式中：L1——测量距离，按本规范表6.0.7计算。对于1-1、2-1、3-2类远场测量暗室，当天线口面内电磁波相位偏差要求小于或等于λ/8时，K值取2。对于2-2类暗室，K值可小于2；

R2——测量系统设备与受试设备沿半径方向的长度之和；

R3——满足运输、维护和辐射特性需要，在半径方向的空间尺寸；

R4——吸波材料的总高度。

2 高度应按本规范式（6.0.7-3）计算。

6.0.10 雷达截面紧缩场微波暗室（3-1类暗室）尺寸，应与要求的静区尺寸、测量系统布局、操作维护空间相协调匹配。

6.0.11 除本规范表4.0.1中1-2、1-3、2-2、3-1、3-2、4-1类暗室测量系统在高度方向布局另有要求外，其他暗室内部测量系统应对称布局。

6.0.12 暗室静区范围尺寸应大于受试设备试验状态中所覆盖的区域。